等離子去膠機 wafer晶圓除膠處理設備

等離子清洗機能各種基礎材料活化表面，去污，提高親潤性，解決印刷，粘接不牢固問題；電子產品刻蝕，除膠，改善附著力
等離子清洗機英文叫（Plasma Cleaner）又稱等離子體清洗機,等離子清洗器,等離子清洗儀,等離子刻蝕機，等離子表面處理機,電漿清洗機，plasma清洗機，等離子去膠機，等離子清洗設備。等離子清洗機/等離子處理機/等離子處理設備廣泛應用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子處理和等離子表面處理等場合。

通過等離子清洗機表面處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、涂鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。

等離子清洗機能對材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，低溫處理，不損傷樣品，等離子去膠機不但可以去除一般的光刻膠，還可以去除在等離子刻蝕過程中產生的殘留聚合物。

晶圓光刻膠的去除，等離子清洗機起到關鍵作用！

等離子清洗機在去除光刻膠方面的具體用途：等離子清洗機器的應用包括預處理、灰化/光致抗蝕劑/聚合物剝離、芯片碰撞、靜電消除、介質蝕刻、有機污染去除、芯片減壓等。使用等離子清洗機不僅可以徹底去除光致抗蝕劑和其他有機物質，而且可以活化和增厚芯片表面，提高芯片表面的潤濕性，使芯片表面更有粘合力。